IBC článek založený na tenkém silikonovém plátku

Černý křemík

Španělsko-finský výzkumný tým vyrobil solární článek IBC s ultratenkým černým křemíkovým plátkem o tloušťce 40 µm. Zařízení je založeno na oxidu vanadu a laserem zpracovaných svazcích karbidu křemíku dopovaného fosforem jako děrových a elektronových transportních vrstvách.

Mezinárodní výzkumný tým se snažil aplikovat černý křemík (bSi) k vývoji ultratenkých substrátů pro aplikace v solárních článcích s interdigitovaným zadním kontaktem (IBC).

Tento druh křemíku nabízí tu výhodu, že umožňuje výrobu ultratenkých a flexibilních plátků s nižší úrovní nečistot. Což má za následek výjimečné vlastnosti pohlcující světlo a nízké výrobní náklady. „Černý křemík je náhodná nanotextura. Ta snižuje povrchovou odrazivost ze všech směrů na minimum, takže Si zčerná pouhým okem na rozdíl od konvenčních náhodných pyramid v mikronovém měřítku,“ vysvětlili vědci.

Použili hluboké reaktivní iontové leptání (DRIE) při kryogenních teplotách k výrobě Si substrátů s různými tloušťkami až do 10 µm. Tento proces je technika leptání na bázi plazmy, která poskytuje hluboké díry a příkopy se strmými stranami v křemíkových plátcích. 

Výzkumníci použili Si substrát o tloušťce 40 µm k vybudování solárního článku s architekturou IBC, o kterém řekli, že může využít optickou výhodu bSi předního povrchu v materiálu. „Použitá struktura solárních článků IBC c-Si se založila na oxidu vanadičném (VOx) a laserem zpracovaných svazcích karbidu křemíku. Ten je dopovaným fosforem jako děrová a elektronová transportní vrstva, v tomto pořadí,“ vysvětlili.

Ultratenký silokonový černý plátek

IBC článek založený na tenkém silikonovém plátku
a) Schéma příčné konstrukce zařízení
b) Obrázek zadní plochy hotového zařízení

Články se také spoléhaly na povrchovou pasivační vrstvu vyrobenou z oxidu hlinitého (Al2 O3) a karbidu křemíku (SiC). „Zvolili jsme konformní vrstvu Al2 O3 nanesenou depozicí atomové vrstvy (ALD). Protože nabízí vynikající povrchovou pasivaci nanotextury bSi a dosahuje průměrné životnosti nad 250 µm v našich ultratenkých waferech bSi,“ uvedli vědci.

FV zařízení dosáhlo účinnosti přeměny energie 16,4 %, napětí naprázdno 633 mV, hustoty zkratového proudu 35,4 mA cm−2 a faktoru plnění 73,4 %. Pro srovnání, referenční článek s leštěnou přední plochou a bez černého křemíkového plátku dosáhl účinnosti 11,5 %. Dále napětí naprázdno 600 mV, hustoty zkratového proudu 27,1 mA cm−2 a faktoru plnění 70,7 %.

„Výsledky externí kvantové účinnosti (EQE) s předním povrchem bSi zlepšují identické zařízení s leštěným předním povrchem ve všech měřených rozsazích spektra. A to od blízkého infračerveného (NIR) po ultrafialové (UV). Což dokazuje, že optické vlastnosti lze úspěšně přenášet k elektrickému fotovoltaickému výkonu v konečném, zapouzdřeném článku,“ uzavřeli vědci. A to s tím, že je zapotřebí další práce, aby se zlepšila účinnost zachycování světla přední bSi textury.

Novou technologii waferů a článků představili v článku „Black Ultra-Thin Crystalline Silicon Wafers Reach the 4n Absorption Limit – Application to IBC Solar Cells“. Ten se publikoval v Nano-Micro Small. Výzkumná skupina zahrnuje akademiky z Universitat Politècnica de Catalunya ve Španělsku a univerzity Aalto ve Finsku.

Zdroj: pv-magazine, Vapol